Preuzimanje brošure

Centru za mikro i nanoznanosti i tehnologije Sveučilišta u Rijeci odobren je projekt Stjecanje Istraživačke i Znanstvene Izvrsnosti u Funkcionalizaciji biomedicinskih materijala (SIZIF) u sklopu Europskog socijalnog fonda i programa Istraživačke stipendije za profesionalni razvoj mladih istraživača i poslijedoktoranada. Cilj projekta SIZIF je jačanje eksperimentalne i znanstvene izvrsnosti, te međunarodnog umrežavanja mladih znanstvenika kroz relevantno i konkurentno znanstveno istraživanje. U sklopu projekta se troje poslijedoktoranada osposobljava za samostalnu provedbu istraživanja vezanog uz primjenu nanoznanosti na funkcionalizaciju biomedicinskih materijala, uz uporabu sofisticiranih tehnika za narastanje, modifikaciju i analizu uzoraka, dobivenih u sklopu EU projekta RISK.

Među opremom koja se koristi u projektu SIZIF je i nekoliko kapitalnih istraživačkih instrumenata jedinstvenih ne samo u Hrvatskoj već i u ovom dijelu Europe. Istraživači uključeni u projekt predstavit će znanstvenu komponentu istraživanja i novu opremu koju koriste.

1. a) SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometer, Maseni spektrometar sekundarnih iona), tehniku za elementnu analizu i mjerenje ultraniskih koncentracija primjesa i nečistoća u različitim materijalima s posebno značajnom primjenom u fizici poluvodiča i poluvodičkoj tehnologiji;
2. b) ALD (Atomic Layer Deposition, Depozicija atomskih slojeva), tehnika za narastanje tankih filmova superiornih karakteristika s primjenama u poluvodičkoj industriji, medicini, konverziji sunčeve energije, pohranjivanju energije, antikorozivnoj zaštiti i sl.;
3. c) SEM (Scanning Electron Microscope, Pretražni elektronski mikroskop), uređaj za strukturnu analizu uzoraka, s velikim povećanjem i rezolucijom od 0,7 nm. Uz SEM dobivamo i jedinstvenu grupu naprednih tehnika za pripremu uzoraka.

100 nm amorfni TiO₂ fim na siliciju s jezgrama anatasne faze, dobiven ALD tehnikom.

100 nm polikristalinični TiO₂ fim na siliciju sa zrncima anatasne faze, dobiven ALD tehnikom.

 SIMS dubinski profil TiO₂ fima.